掩膜版烘烤機(jī)，光罩版恒溫?zé)?/span>板

   在集成電路制造領(lǐng)域，光刻技術(shù)被用來(lái)將圖案從包含電路設(shè)計(jì)信息的光刻掩膜版上轉(zhuǎn)移到晶圓(wafer)上，其中的光刻掩膜版(mask)，也稱(chēng)為光刻版、掩膜版或者光罩，是一種對(duì)于曝光光線具有透光性的平板，其上具有對(duì)于曝光光線具有遮光性的至少一個(gè)幾何圖形，所述幾何圖形為設(shè)計(jì)圖形，可實(shí)現(xiàn)有選擇的遮擋照射到晶片表面光刻膠上的光，并最終在晶圓表面的光刻膠上形成相應(yīng)的圖案。

掩膜版烘烤機(jī)，光罩版恒溫?zé)岚?/strong>技術(shù)參數(shù)

溫度分辨率 ：0.1℃  

溫度波動(dòng)度：≤±0.5℃        

溫度均勻性：≤±1%℃

電源輸入：AC220V 10A         

加熱功率：600/1500W......

控溫范圍：RT~200/300/400/500/600℃     

頂蓋：SUS304不銹鋼

密封性：保證腔體溫度的穩(wěn)定性，頂蓋接口處密封處理

加熱面板材料：陽(yáng)極鋁合金,度陶瓷面板，耐高溫不銹鋼

加熱區(qū)：

160*160

220*220

280*200

520*260等多尺寸，可定制

可定制：

分體式；

真空加熱臺(tái)；

頂針自動(dòng)控制；

PIN孔+PIN；

氮?dú)獗Ｗo(hù)......

  恒溫?zé)岚逵糜诠袒饪棠z，固化環(huán)氧塑脂，可用于顯微鏡下使用以及其它需要高精度控溫的場(chǎng)合等。適用于半導(dǎo)體光刻工藝的前烘和堅(jiān)膜、電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核等工藝。工業(yè)各行業(yè)恒溫加熱樣品的烘焙、干燥和作其他溫度試驗(yàn)，是生物、遺傳、醫(yī)藥衛(wèi)生、環(huán)保、生化實(shí)驗(yàn)室、分析室、教學(xué)研究的的工具